In der Fertigungshalle führt eine Temperaturabweichung von 0,5 °C im Reaktorraum dazu, dass die Produktivität nach und nach abnimmt. Wir haben diesen CVD-Heizer entwickelt, um mit der Tatsache umzugehen, dass bei jeder Produktionsschicht genaue Kontrollen bezüglich der Temperatur notwendig sind – in Angström und Grad.
Was technisch wichtig ist:
Der Heizer kombiniert kurzwelliges Infrarotheizen mit einem in Quarz eingebetteten Element. Dadurch wird eine Homogenität auf Wafer-Ebene von ±0,1 °C erreicht. Die Temperatur stabilisiert sich innerhalb von weniger als 10 Sekunden – und die Wiederholgenauigkeit bleibt über Tausende von Zyklen hinweg bei ±0,2 °C.
Die Kompatibilität mit Reinräumen ist ebenfalls wichtig. Materialien mit geringer Ausgasung, eine Konstruktion, die den Anforderungen der Klasse 1–100 entspricht, sowie eine Oberflächenbeschaffenheit, die eine konstante Partikelzahl gewährleistet, sind integraler Bestandteil des Designs. Eine Null-Partikel-Generierung ist kein Slogan – es handelt sich dabei um eine notwendige Voraussetzung, die durch kontinuierliche Überwachung überprüft wird.
Warum der Heizer in der Produktion funktioniert:
Bei der CVD-Verfahrensweise spielt die thermische Stabilität eine entscheidende Rolle für Dicke des Films, Spannungen sowie Defektzahlen. Der Heizer hält die thermischen Bedingungen unter Kontrolle, sodass die Depositionsprozesse konstant ablaufen können – ohne dass es zu Abweichungen kommt.
Die schnelle Reaktionszeit reduziert die Pausezeiten zwischen den Chargen. Zudem hilft die stabile Temperaturführung bei den anschließenden Schritten – insbesondere beim Trocknen des Photoresists. Die Profilangaben für das sanfte und intensive Trocknen bleiben innerhalb der Spezifikationen – was wiederum weniger Nacharbeiten bedeutet.
Der Energieverbrauch sinkt, da die Wärme nur dann erzeugt wird, wenn sie benötigt wird – mit minimalem Überschuss. Zudem ist der Heizer so konzipiert, dass er 24/7 ohne unplanmäßige Ausfälle arbeiten kann.
Was man richtig machen muss:
Bei der Installation muss die Ausrichtung im heißen Bereich des Reaktors genau gestimmt werden – außerdem muss eine kompatible RF/EMI-Schutzmaßnahme vorhanden sein. Wenn das nicht richtig gemacht wird, können später mikroskopische Unregelmäßigkeiten entstehen.
Man sollte mit einer kurzen Einrichtungszeit rechnen, um die PID-Konstanten an die Eigenschaften des Reaktors sowie den Gasfluss anzupassen. Sobald das erledigt ist, ist der Heizer zuverlässig – doch man sollte die thermische Schnittstelle als Teil des Prozesses betrachten, nicht als separates Element.