En la planta de fabricación, los wafer se adelgazan hasta alcanzar los 50 µm. Sin embargo, la calidad del producto disminuye debido a la falta de uniformidad en el proceso de secado. Los perfiles del fotorreceptor también cambian cuando hay irregularidades en el proceso de secado. Además, el material utilizado para sellar los wafer se agrieta cuando la temperatura durante el proceso de curado es demasiado alta. Por eso, hemos diseñado calentadores infrarrojos para eliminar esa incertidumbre térmica.
Lo que es importante desde el punto de vista técnico
Utilizamos emisores de infrarrojos de onda corta, con una respuesta térmica rápida y directa. De esta manera, logramos alcanzar la temperatura deseada en cuestión de segundos, sin que haya sobrepasos. En toda la zona activa, la uniformidad de la temperatura del wafer se mantiene dentro de un rango de ±0.1°C. La repetibilidad entre diferentes lotes también se mantiene, ya que los emisores envejecen de manera predecible. El sistema es adecuado para salas limpias de clase 1–100. Además, reducimos la generación de partículas gracias a ventanas de cuarzo selladas y a un sistema que minimiza la emisión de gases. La densidad de energía se ajusta para que sea suficiente para eliminar rápidamente los solventes, pero lo suficientemente baja como para no dañar la superficie posterior del wafer ni causar deformaciones.
Por qué funciona en nuestros procesos
En el proceso de secado de los wafer, los rayos infrarrojos actúan directamente sobre la capa de agua, lo que acorta el ciclo de secado y reduce el consumo energético. En el procesamiento del fotorreceptor, permite mantener las temperaturas adecuadas durante los procesos de secado suave y duro, lo que garantiza dimensiones consistentes y perfiles uniformes en las paredes laterales del wafer. En cuanto al empaquetado, permite controlar las condiciones de curado, evitando así shocks térmicos. Como resultado, se reducen los lotes que requieren retrabajo, se mantienen niveles estables de defectos y se puede planificar mejor el volumen de producción. También se reduce el consumo de energía, ya que los calentadores trabajan menos tiempo en modo de espera y pasan más tiempo en estado estable.
Lo que debe saber de antemano
Los rayos infrarrojos requieren una línea de visión directa entre el emisor y el wafer. Por eso, la ubicación de los emisores debe coincidir con la geometría del soporte del wafer. También es necesario mantener superficies reflectantes y superficies de cuarzo limpias; de lo contrario, se generarán puntos calientes en los bordes del wafer. Es preciso contar con una alimentación eléctrica adecuada y un sistema de gestión térmica que mantenga frías las paredes de la cámara. Una vez que todo esté alineado, el rango de operación es amplio, pero las tolerancias de configuración son muy estrictas.