Di lantai produksi, wafer-diwisahkan hingga ketebalannya mencapai 50 µm. Namun, tingkat keberhasilan proses ini menurun karena proses pengeringan yang tidak merata. Profil fotoresist juga berubah akibat fluktuasi suhu saat proses pembakaran. Selain itu, lapisan penutup pada wafer juga rusak akibat lonjakan suhu saat proses pengerasan. Kami membuat pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah ketidakpastian termal tersebut.
Apa yang penting secara teknis? Kami menggunakan pemancar inframerah berpanjang gelombang pendek yang memiliki respons termal yang cepat dan langsung. Dengan demikian, suhu target dapat dicapai dalam beberapa detik, tanpa terjadi overshoot. Di seluruh area pemrosesan, keseragaman suhu wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C. Repeatabilitas proses pun terjaga, karena umur pemancar inframerah dapat diprediksi dengan baik. Sistem ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Kami juga meminimalkan pembentukan partikel debu dengan menggunakan jendela kuarsa yang tertutup rapat serta sistem pengelolaan panas yang efektif. Kepadatan daya yang digunakan disesuaikan dengan ketebalan wafer; cukup untuk menguapkan pelarut dengan cepat, namun tidak terlalu besar sehingga tidak menyebabkan kerusakan pada permukaan wafer.
Mengapa cara ini efektif di tempat kami bekerja? Dalam proses pengeringan wafer, sinar inframerah langsung mengenai lapisan air di permukaan wafer, sehingga waktu proses menjadi lebih singkat dan konsumsi energi berkurang. Dalam proses pengolahan fotoresist, sinar inframerah membantu menjaga suhu yang tepat selama proses pembakaran, sehingga dimensi dan profil samping wafer tetap konsisten. Dalam proses pengemasan, sinar inframerah membantu menciptakan kondisi pengerasan yang terkendali, sehingga tidak ada guncangan termal. Hasilnya: jumlah produk yang perlu diperbaiki berkurang, tingkat kecacatan tetap stabil, dan kapasitas produksi dapat direncanakan dengan lebih baik. Penggunaan energi juga berkurang, karena pemanas jarang berhenti bekerja dan lebih banyak waktu beroperasi dalam kondisi stabil.
Apa yang perlu diketahui sebelumnya? Sinar inframerah hanya bisa bergerak sepanjang garis pandang, sehingga posisi pemancar harus disesuaikan dengan geometri chuck dan tumpukan wafer. Pastikan permukaan reflektif dan permukaan kuarsa tetap bersih; jika tidak, akan muncul titik-titik panas di bagian tepi wafer. Persiapkan sumber daya listrik yang memadai serta sistem pengelolaan panas yang efektif agar dinding ruang produksi tetap dingin. Setelah semuanya disesuaikan dengan benar, rentang prosesnya akan lebih luas, tetapi toleransi penyetelan harus sangat ketat.