Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran boleh menyebabkan perubahan pada profil fotoresist sebanyak beberapa nanometer. Dan perbezaan nanometer inilah yang menentukan kualiti produk yang dihasilkan. Dalam proses litografi dan penggunaan fotoresist, faktor suhu bukan sekadar panduan; ia merupakan unsur penting dalam proses pengeluaran itu sendiri. Kami membina pemanas industri untuk digunakan di kilang-kilang pengeluaran wafer di seluruh dunia, dengan reka bentuk yang memastikan suhu tetap stabil dari satu sesi ke sesi yang lain.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Pemanas kami memastikan suhu di permukaan wafer kekal stabil dalam lingkungan ±0.1°C, agar profil pembakaran tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Unsur kuarsa yang digunakan membolehkan kawalan suhu yang tepat, serta mengelakkan berlakunya gangguan suhu yang tidak diingini. Reka bentuk pemanas ini juga disesuaikan untuk digunakan dalam persekitaran Cleanroom Kelas 1–100. Bahan-bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas berbahaya, dan susunan mekanikalnya pula memastikan tiada zarah berbahaya terkumpul semasa proses pembakaran. Tiada penjanaan zarah berbahaya bukan sekadar slogan – ia merupakan syarat yang perlu dipenuhi, dan ia akan diperiksa melalui alat pengukuran yang ada.
Mengapa reka bentuk ini efektif untuk pengeluaran
Kilang-kilang ini beroperasi 24/7, dan sebarang gangguan operasi akan menyebabkan pembaziran wafer dan kehilangan kapasiti pengeluaran. Pemanas ini direka untuk beroperasi secara berterusan, dengan jadual penyelenggaraan yang dapat diramalkan, dan prestasi yang stabil selepas 5,000 jam operasi. Kami memastikan penggunaan tenaga yang efisien, tanpa mengorbankan ketepatan suhu yang dikehendaki. Oleh itu, pemanas ini sesuai digunakan dalam lini pengeluaran yang baru atau yang sedang dinaik taraf. Kelebihannya ialah kawalan dimensi yang tepat, pengurangan jumlah produk yang perlu diperbaiki, serta proses pembakaran yang boleh dipercayai.
Butiran praktikal
Pemasangan pemanas ini bukanlah sesuatu yang mudah. Untuk memastikan pemanas ini berfungsi dengan baik, voltan, jenis sambungan, lapisan pelindung, dan mekanisme keselamatan perlu disesuaikan dengan betul. Kami menyediakan gambar rajah dimensi dan arahan pengoperasian terlebih dahulu, namun sambungan termal antara pemanas dan permukaan wafer serta aliran udara di dalam Cleanroom masih perlu diperiksa di tapak. Adakan masa yang cukup untuk menyesuaikan kadar pemanasan dan memastikan keseragaman suhu. Itulah cara untuk memastikan kebolehulangan hasil pengeluaran yang diinginkan.