http://quartz-ir-heat.com/cs/tags/su%C5%A1en%C3%AD/ Recent content in Sušení on Quartz Infrared Heating Source Hugo cs Tue, 21 Jul 2026 09:45:59 +0800 http://quartz-ir-heat.com/cs/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ Tue, 21 Jul 2026 09:45:59 +0800 http://quartz-ir-heat.com/cs/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://quartz-ir-heat.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Vyhřívač na sušení destičky senzoru MEMS"></p> <h1 id="jak-vysochout-desky-mems-bez-problémů">Jak vysochout desky MEMS bez <a href="https://goldisgood.com">probl</a>émů</h1> <p>Vysochání desek <a href="https://o-yate.net">senzor</a>ů typu MEMS je trochu náročné – potřebujete, aby voda zmizela co nejrychleji. Ale pokud budete jednat příliš agresivně, hrozí tepelné napětí nebo zbytky látek na povrchu desky.</p> <p>Trik, který jsme našli, spočívá v použití infračervených ohřívačů spolu s odrazovými plochami potaženými zlatem. Zní to luxusně, ale ve skutečnosti jde o to zajistit, aby teplo opravdu dopadalo na desku, a ne zahřívalo vnitřní části stroje.</p> <p><strong>Proč zlato?</strong><br> Vezměte si běžnou kvartovou lampu – ta vyzařuje teplo do všech směrů. V typické konfiguraci tak vlastně polovinu energie plýtváte.</p> http://quartz-ir-heat.com/cs/posts/photoresist-drying-infrared-module/ Mon, 01 Jun 2026 20:35:30 +0800 http://quartz-ir-heat.com/cs/posts/photoresist-drying-infrared-module/ <p><img src="http://quartz-ir-heat.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Infračervený modul pro sušení fotorezistu"></p> <p>Na výrobní podlaze může i polostupeň driftu při měkkém vypalování narušit kontrolu kritických rozměrů a po vývoji zanechat zbytky. Už není prostor pro odhady. Vyvinuli jsme infračervený modul pro sušení fotoresistu, který eliminuje tuto proměnlivost a poskytuje opakovatelný tepelný průběh, když je uniformita na úrovni waferu a čistotní disciplína v cleanroomu jediným přijatelným standardem.</p> <p><strong>Co je skutečně důležité pod kapotou</strong><br> Používáme krátkovlnné infračervené záření s halogenově neobsahujícími křemennými emitory, které přímo přenášejí energii do vrstvy resistu. Výsledkem je uniformita na úrovni waferu v rámci ±0,1 °C přes celou vypalovací plochu a teplotní nastavení, která zůstávají stabilní po celou dobu měkkého i tvrdého vypalování. Modul je určen pro cleanroomy třídy 1–100 a nezvyšuje koncentraci částic díky uspořádání emitterů a proudění vzduchu, které minimalizují turbulence a zabraňují uvolňování částic. Po více než 5 000 hodinách provozu zůstává drift intenzity pod 5 %, takže tepelný rozpočet na každý výrobní šarži je konstantní.</p>