<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Abspülen on Quartz Infrared Heating Source</title>
		<link>http://quartz-ir-heat.com/de/tags/absp%C3%BClen/</link>
		<description>Recent content in Abspülen on Quartz Infrared Heating Source</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 12 Jul 2026 10:05:39 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-ir-heat.com/de/tags/absp%C3%BClen/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Wasserdichte Infrarotlampe zum Spülen</title>
				<link>http://quartz-ir-heat.com/de/posts/waterproof-infrared-lamp-for-rinse/</link>
				<pubDate>Sun, 12 Jul 2026 10:05:39 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-ir-heat.com/de/posts/waterproof-infrared-lamp-for-rinse/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-ir-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Wasserdichte Infrarotlampe zum Spülen&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Warum Infrarotlampen in der Spülphase besser sind als heiße Luft&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wenn Sie bereits Erfahrung im Halbleiterverarbeitungsprozess haben, wissen Sie, dass die Spülphase normalerweise der Punkt ist, an dem alles langsamer wird. Es handelt sich dabei um ein klassisches Engpassproblem.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Jahrelang haben wir auf die Zirkulation von heißer Luft gesetzt. Doch das hat einen Nachteil: Man muss zunächst den gesamten Luftvolumen in der Kammer erhitzen, bevor der Wafer überhaupt eine Temperaturänderung wahrnimmt. Das ist langsam und mühsam.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
