Waferschmälern durch Erwärmung mit Infrarotstrahlung

Thu, 02 Jul 2026 09:13:21 +0800

Im Produktionsbereich werden die Wafer auf eine Dicke von 50 µm herabgedünnt. Dabei geht jedoch die Qualität der Wafer zurück – schließlich erfolgt das Trocknen nicht gleichmäßig. Die Profilierung des Fotolacks ändert sich, wenn die Temperatur beim Trocknen ungleichmäßig ist. Zudem brechen die Füllstoffe in den Verpackungen, wenn die Heiztemperatur zu hoch ist. Wir haben daher Infrarotheizer entwickelt, um diese thermischen Unwägheiten zu beseitigen.

Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler mit einer schnellen, direkten Wärmereaktion. Dadurch wird das gewünschte Temperaturniveau innerhalb von Sekunden erreicht – und dabei wird keine Überschreitung dieses Niveaus verursacht. In der aktiven Zone bleibt die Gleichmäßigkeit der Temperatur bei ±0,1 °C. Die Wiederholgenauigkeit bleibt konstant, da die Heizer eine vorhersehbare Alterung aufweisen. Das System eignet sich für Reinräume der Klasse 1–100. Durch verschlossene Quarzfenster sowie einen geringen Gasausstoß wird die Bildung von Partikeln minimiert. Die Leistungsdichte wird so eingestellt, dass genug Wärme vorhanden ist, um Lösungsmittel schnell zu entfernen – doch gleichzeitig wird verhindert, dass die Rückseite des Spiegels beschädigt wird.

Verdünnung on Quartz Infrared Heating Source

Waferschmälern durch Erwärmung mit Infrarotstrahlung