Wafer on Quartz Infrared Heating Source

Sicherheitsabstand bei der Wafererwärmung

Tue, 28 Jul 2026 05:12:56 +0800

Ihre Reinraumumgebung auf einem Niveau von Klasse 100 halten – das ist möglich!
Wenn Sie Siliziumwafers in einer Reinraumumgebung der Klasse 100 erhitzen, kennen Sie sicherlich die Probleme, die dabei entstehen können. Schon ein kleiner Staubkorn oder etwas Ausgasung kann dazu führen, dass die gesamte Charge unbrauchbar wird. Das ist frustrierend. Die meisten herkömmlichen Heizelemente eignen sich nicht dafür – sie zerfallen unter dem Einfluss der hohen Temperaturen und ruinieren somit die Qualität der Wafers.

Deshalb verwenden wir für unsere IR-Lampen hochreinen synthetischen Quarz.

Reflektor für Wafer Aushärtungslampe

Thu, 23 Jul 2026 12:16:04 +0800

Die Probleme verhindern: Umgang mit defekten Lampen bei der Härtung von Wafern
Seien wir ehrlich: Wenn eine Lampe in einem System mit hohem Belastungsgrad defekt geht, ist das ein Albtraum. Es geht nicht nur um die Stillstandszeiten oder die störenden Alarmanzeigen – es geht auch um den Schmutz, der entsteht.
Wenn eine Quarztube zerbricht, fallen Glasstücke sowie Halogengas direkt auf die Wafern. Das führt zu einer Kontamination der Wafern. Deshalb haben wir unsere Reflektorstrukturen so konstruiert, dass sie als physischer Schutz dienen.

Präziser IR Sensor für Wafern

Wed, 22 Jul 2026 05:06:18 +0800

Hören Sie auf, zuzulassen, dass Ihre Heizlampen Ihre Wafer beschädigen!
Wenn Sie einen Reinraum der Klasse 100 betreiben, kennen Sie dieses Problem nur zu gut. Ein einziger Staubkorn – etwas, das man nicht einmal sehen kann – kann dazu führen, dass ganze Chargen von Wafern unbrauchbar werden. Das ist frustrierend.

Das Problem liegt oft bei herkömmlichen IR-Lampen. Sie geben Gase ab oder lösen mikroskopisch kleine Partikel aus ihrem Gehäuse aus – im Grunde handelt es sich dabei um „kleine Staubfabriken“, genau dort, wo man sie am wenigsten gebrauchen kann.

Heizgerät zum Trocknen von MEMS Sensorwafern

Tue, 21 Jul 2026 09:45:59 +0800

Wie man MEMS-Chips trocknet – ohne Probleme
Das Trocknen von MEMS-Sensorchips erfordert einiges an Geschick. Man muss das Wasser schnell entfernen – doch wenn man zu aggressiv vorgeht, besteht die Gefahr von thermischen Belastungen oder übrig bleibenden Rückständen.

Unser Trick besteht darin, Infrarotheizungen in Kombination mit reflektierenden Oberflächen aus Gold zu verwenden. Das klingt zwar kompliziert, aber im Grunde geht es darum, sicherzustellen, dass die Wärme tatsächlich auf den Chip trifft – und nicht nur den Inneren der Maschine erwärmt.

Energieeffizienter Waferheizer

Thu, 09 Jul 2026 03:13:15 +0800

Einführung
Wir haben Infrarot-Heizsysteme entwickelt – aus einem einzigen Grund: Damit Ihre Halbleiterproduktionsanlage effizienter arbeiten kann, unter gleichzeitiger Reduzierung des Energieverbrauchs. Wir sprechen davon, die Wafer schnell auf die richtige Temperatur zu bringen – mit präziser Kontrolle. Dabei wird deutlich weniger Energie verbraucht als bei herkömmlichen Heizsystemen.

Im Wettlauf zu einer kohlenstoffneutralen Fertigungshalle ist das wichtig. So können Sie Ihre Umweltziele erreichen, ohne die Produktionsgeschwindigkeit zu verringern. Es gibt keine Kompromisse – nur saubere, präzise Wärme, die dazu beiträgt, dass die Produktionsgeschwindigkeit und die Ausbeute genau dort bleiben, wo sie sein sollen.

Waferschmälern durch Erwärmung mit Infrarotstrahlung

Thu, 02 Jul 2026 09:13:21 +0800

Im Produktionsbereich werden die Wafer auf eine Dicke von 50 µm herabgedünnt. Dabei geht jedoch die Qualität der Wafer zurück – schließlich erfolgt das Trocknen nicht gleichmäßig. Die Profilierung des Fotolacks ändert sich, wenn die Temperatur beim Trocknen ungleichmäßig ist. Zudem brechen die Füllstoffe in den Verpackungen, wenn die Heiztemperatur zu hoch ist. Wir haben daher Infrarotheizer entwickelt, um diese thermischen Unwägheiten zu beseitigen.

Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler mit einer schnellen, direkten Wärmereaktion. Dadurch wird das gewünschte Temperaturniveau innerhalb von Sekunden erreicht – und dabei wird keine Überschreitung dieses Niveaus verursacht. In der aktiven Zone bleibt die Gleichmäßigkeit der Temperatur bei ±0,1 °C. Die Wiederholgenauigkeit bleibt konstant, da die Heizer eine vorhersehbare Alterung aufweisen. Das System eignet sich für Reinräume der Klasse 1–100. Durch verschlossene Quarzfenster sowie einen geringen Gasausstoß wird die Bildung von Partikeln minimiert. Die Leistungsdichte wird so eingestellt, dass genug Wärme vorhanden ist, um Lösungsmittel schnell zu entfernen – doch gleichzeitig wird verhindert, dass die Rückseite des Spiegels beschädigt wird.

Temperatursensor für Wafer Werkzeug

Sat, 06 Jun 2026 04:14:02 +0800

Auf der Fertigungsebene ist eine Abweichung von 0,5°C während des Photoresist-Backens nicht nur eine CD-Änderung. Es steht viel auf dem Spiel. Wafer-Werkzeuge laufen 7×24 Stunden, und thermische Instabilität kumuliert schnell, verbraucht thermisches Budget und erzwingt Nacharbeit. Sie benötigen einen Temperatursensor, bei dem Wiederholgenauigkeit eine Spezifikation ist, kein Diskussionspunkt.

Technisch relevant Wir haben diesen Sensor für Wafer-Werkzeuge im Hinblick auf eine waferbezogene thermische Gleichmäßigkeit von ±0,1°C entwickelt, sodass jeder Softbake und Hardbake das gleiche thermische Profil einhält – Charge für Charge. Er eignet sich für Reinraumklassen 1–100 und produziert keine Partikel, sodass keine Ertragsverluste durch Kontamination entstehen. Er läuft kontinuierlich ohne ungeplante Ausfälle, und die Lebensdauer ist so lang, dass Austauschzyklen planbar bleiben. Der Nutzen ist ein stabiler Prozessfenster und eine reproduzierbare Lithographie-Performance.