Zukunft der Halbleiterheiztechnologie

Wed, 01 Jul 2026 13:08:31 +0800

Im Produktionsbereich reicht bereits eine Temperaturabweichung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses des Photoresists aus, um einen 300-mm-Wafer unbrauchbar zu machen. Die Temperaturregelung ist daher keine Nebenaufgabe – sie ist vielmehr die Grundvoraussetzung für einen reibungslosen Ablauf des Prozesses. Wir haben unsere NIR-Heizplattform so konzipiert, dass eine Temperaturstabilität auf dem Niveau von ±0,1 °C gewährleistet wird. Dadurch bleiben auch bei den empfindlichen Maßen während des Trocknungsprozesses die erforderlichen Werte erhalten.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Nahinfrarot-Heizesysteme in Kombination mit schnell reagierenden Kohlenstofffaserkomponenten. Dadurch wird eine schnelle Temperaturerhöhung ohne Überschreitung der Grenzwerte ermöglicht. Die Schleifensteuerung sorgt dafür, dass die Temperatur über den gesamten Wafer gleichmäßig bleibt – selbst dann, wenn der Trocknungsprozess weniger als eine Minute dauert. Die Konstruktion der Heizplattform berücksichtigt außerdem die Anforderungen eines Reinraums: Materialien mit geringer Gasemission, gefilterte Luftwege sowie Oberflächen, die während des Betriebs keine Partikel freisetzen. Dadurch werden wiederholbare Trocknungsprofile erzielt, und der Energieverbrauch hängt vom Zykluszeitraum ab – nicht von unnötiger Wärmeabgabe.

Zukunft on Quartz Infrared Heating Source

Zukunft der Halbleiterheiztechnologie