Réchauffement par infrarouges pour l affinage des wafer

Thu, 02 Jul 2026 09:13:20 +0800

Sur le site de fabrication, on épaissit les plaques jusqu’à 50 µm, puis on observe une diminution de la qualité des produits, car le séchage n’est pas homogène. Les profils du photo-résistant changent lorsque la température de séchage varie. Les revêtements utilisés pour l’emballage se fissurent lorsque la température de durcissement augmente brusquement. Nous avons conçu des chauffages à infrarouges afin d’éliminer ces fluctuations thermiques.

Ce qui est important sur le plan technique : Nous utilisons des émetteurs à infrarouges à ondes courtes, avec une réponse thermique rapide et directe. Ainsi, nous atteignons rapidement la température souhaitée, sans excès de chaleur. Dans toute la zone active, l’uniformité de la température reste comprise entre ±0,1°C. La répétabilité des résultats est assurée, car les émetteurs perdent progressivement leur efficacité. Ce système convient aux salles propres de classe 1–100. De plus, nous limitons la génération de particules grâce à des fenêtres en quartz scellées et à un système de gestion du gaz. La densité énergétique est adaptée aux plaques épaissies : elle suffit pour faire évaporer rapidement les solvants, mais reste suffisamment faible pour éviter toute contrainte sur la surface arrière de la plaque et tout risque de déformation.

Amincissement on Quartz Infrared Heating Source

Réchauffement par infrarouges pour l affinage des wafer