Capteur de température pour outil de wafer

Sat, 06 Jun 2026 04:14:02 +0800

Sur le plancher de fabrication, une dérive de 0,5°C lors du séchage du photoresist n’est pas qu’un simple décalage de CD. Les enjeux sont beaucoup plus importants. Les équipements pour wafer fonctionnent 7×24, et l’instabilité thermique s’amplifie rapidement, consommant le budget thermique et forçant des retouches. Vous avez besoin d’un capteur de température dont la répétabilité est une spécification et non un simple argument.

Ce qui compte techniquement
Nous avons conçu ce capteur pour les équipements wafer pour garantir une uniformité thermique au niveau du wafer de ±0,1°C, afin que chaque séchage soft bake ou hard bake respecte le même profil thermique, lot après lot. Il est compatible avec les classes de salle blanche 1–100 et ne génère aucune particule, évitant ainsi toute baisse de rendement liée à la contamination. Il fonctionne en continu sans arrêts non planifiés et sa durée de vie permet de prévoir les remplacements. Le résultat est une fenêtre de procédé stable et une performance lithographique constante.

Température on Quartz Infrared Heating Source

Capteur de température pour outil de wafer