http://quartz-ir-heat.com/hi/tags/%E0%A4%9F%E0%A5%87%E0%A4%95%E0%A5%8D%E0%A4%A8%E0%A5%8B%E0%A4%B2%E0%A5%89%E0%A4%9C%E0%A5%80/ Recent content in टेक्नोलॉजी on Quartz Infrared Heating Source Hugo hi Wed, 01 Jul 2026 13:08:31 +0800 http://quartz-ir-heat.com/hi/posts/future-of-semiconductor-heating-tech/ Wed, 01 Jul 2026 13:08:31 +0800 http://quartz-ir-heat.com/hi/posts/future-of-semiconductor-heating-tech/ <p><img src="http://quartz-ir-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="अर्धचालक तापन तकनीक का भविष्य"></p> <p>फैब फ्लोर पर, फोटोरेजिस्ट को गर्म करने की प्रक्रिया के दौरान मात्र 0.5°C का अंतर ही 300 मिमी आकार के वेफरों को नष्ट करने के लिए पर्याप्त है। तापमान नियंत्रण कोई साधारण कार्य नहीं है – यह तो प्रक्रिया के संचालन हेतु आवश्यक शर्त है। हमने ऐसा NIR हीटिंग प्लेटफॉर्म विकसित किया है, जिससे वेफरों पर तापमान ±0.1°C के भीतर ही रहता है; इससे सॉफ्ट बेक एवं हार्ड बेक प्रक्रियाओं के दौरान वेफरों के आकार में कोई परिवर्तन नहीं होता।</p>