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		<title>पतला होना on Quartz Infrared Heating Source</title>
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		<description>Recent content in पतला होना on Quartz Infrared Heating Source</description>
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				<title>वेफर को पतला करने हेतु इन्फ्रारेड ऊष्मा का उपयोग</title>
				<link>http://quartz-ir-heat.com/hi/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:13:20 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-ir-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;वेफर को पतला करने हेतु इन्फ्रारेड ऊष्मा का उपयोग&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;फैब्रिकेशन लेवल पर, वेफरों की मोटाई को 50 माइक्रोमीटर तक कम किया जाता है। लेकिन सुखाने की प्रक्रिया यदि समान न हो, तो उत्पादन दर में कमी आ जाती है। जब “सॉफ्ट बेक” प्रक्रिया में तापमान में उतार-चढ़ाव होता है, तो पैकेजिंग प्रक्रिया में समस्याएँ आ जाती हैं। हमने ऐसे इन्फ्रारेड हीटर विकसित किए हैं, जिससे ऐसी समस्याओं से बचा जा सके।&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;तकनीकी दृष्टि से महत्वपूर्ण बातें&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;हम ऐसे शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड एमिटरों का उपयोग करते हैं, जिनकी थर्मल प्रतिक्रिया तेज़ होती है। इससे हम कुछ ही सेकंडों में वांछित तापमान तक पहुँच सकते हैं, एवं उस तापमान को बनाए रख सकते हैं। वेफरों पर तापमान की एकरूपता ±0.1°C के भीतर ही रहती है। चूँकि एमिटरों की उम्र अनुमानित होती है, इसलिए प्रक्रिया में दोहराव भी होता है। यह सिस्टम क्लास 1–100 क्लीनरूमों में भी काम कर सकता है। हम सील्ड क्वार्ट्ज विंडोज़ एवं कम गैस उत्सर्जन वाली प्रणालियों का उपयोग करके कणों के उत्पादन को कम करते हैं। वेफरों की पतली सतहों के लिए ऊर्जा घनत्व ऐसा ही होता है – पर्याप्त ऊष्मा ताकि विलायक जल्दी ही निकल जाएं, लेकिन इतनी ही ऊष्मा कि वेफरों पर कोई दबाव न पड़े।&lt;/p&gt;</description>
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