<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Penipisan on Quartz Infrared Heating Source</title>
		<link>http://quartz-ir-heat.com/id/tags/penipisan/</link>
		<description>Recent content in Penipisan on Quartz Infrared Heating Source</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:13:22 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-ir-heat.com/id/tags/penipisan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanasan untuk menipiskan wafer menggunakan sinar inframerah</title>
				<link>http://quartz-ir-heat.com/id/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:13:22 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-ir-heat.com/id/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-ir-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemanasan untuk menipiskan wafer menggunakan sinar inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai produksi, wafer-diwisahkan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;hingga&lt;/a&gt; ketebalannya mencapai 50 µm. Namun, tingkat keberhasilan proses ini menurun karena proses pengeringan yang tidak merata. Profil fotoresist juga berubah akibat fluktuasi suhu saat proses pembakaran. Selain itu, lapisan penutup pada wafer juga rusak akibat lonjakan suhu saat proses pengerasan. Kami membuat pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah ketidakpastian termal tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting secara teknis?&lt;/strong&gt;&#xA;Kami menggunakan pemancar inframerah berpanjang gelombang pendek yang memiliki &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;respons&lt;/a&gt; termal yang cepat dan langsung. Dengan demikian, suhu target dapat dicapai dalam beberapa detik, tanpa terjadi overshoot. Di seluruh area pemrosesan, keseragaman suhu wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C. Repeatabilitas proses pun terjaga, karena umur pemancar inframerah dapat diprediksi dengan baik. Sistem ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Kami juga meminimalkan pembentukan partikel debu dengan menggunakan jendela kuarsa yang tertutup rapat serta sistem pengelolaan panas yang efektif. Kepadatan daya yang digunakan disesuaikan dengan ketebalan wafer; cukup untuk menguapkan pelarut dengan cepat, namun tidak terlalu besar sehingga tidak menyebabkan kerusakan pada permukaan wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
