Riscaldamento a infrarossi per sottilizzazione dei wafer

Thu, 02 Jul 2026 09:13:22 +0800

Nella sala di produzione, i wafer vengono assottigliati fino a 50 µm; tuttavia, la qualità del prodotto peggiora a causa di una essiccazione non uniforme. I profili del fotoresistono cambiano quando le condizioni di essiccazione non sono costanti. Inoltre, i materiali utilizzati per il packaging possono rompersi a causa di picchi di temperatura durante il processo di cura. Abbiamo progettato dei riscaldatori a infrarossi per eliminare queste incertezze termiche.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Utilizziamo emettitori a onde corte a infrarossi, caratterizzati da una risposta termica rapida e diretta. In questo modo, riusciamo ad arrivare al valore desiderato in pochi secondi, mantenendo tale valore senza che si verifichino sovraccarichi termici. Nella zona attiva, l’uniformità della temperatura sui wafer rimane entro ±0,1°C; inoltre, la ripetibilità tra diverse sessioni di produzione è alta, grazie alla previsionabile degradazione degli emettitori stesso. Il sistema è adatto per ambienti puliti di classe 1–100. Per ridurre la generazione di particelle, utilizziamo finestre in quarzo sigillate e sistemi di gestione del calore efficaci. La densità di potenza è regolata in modo da permettere una essiccazione rapida dei solventi, ma senza causare stress sulla superficie posteriore dei wafer.

Diradamento on Quartz Infrared Heating Source

Riscaldamento a infrarossi per sottilizzazione dei wafer