Futuro della tecnologia di riscaldamento a semiconduttori

Wed, 01 Jul 2026 13:08:31 +0800

Nelle linee di produzione, basta un aumento di temperatura di 0,5°C durante il processo di essiccazione del fotoresist affinché il wafer da 300 mm venga reso inutilizzabile. Il controllo termico non è semplicemente un aspetto secondario: è fondamentale per garantire che le dimensioni critiche del wafer rimangano entro i limiti previsti, sia durante il trattamento delicato che quello più intensivo.

Ciò che è importante nel funzionamento del sistema
Utilizziamo sorgenti di radiazione a infrarosso vicino (NIR), abbinate a elementi in fibra di carbonio ad alta risposta, per ottenere tassi di riscaldamento rapidi senza che si verifichino variazioni eccessive della temperatura. Il controllo a ciclo chiuso mantiene la temperatura stabile su tutto il wafer, anche quando il tempo di trattamento è inferiore a un minuto. Il design del sistema prevede l’uso di materiali con bassa emissione di gas, sistemi di ventilazione filtrata e superfici che non generano particelle durante il funzionamento. In questo modo, i parametri di riscaldamento rimangono costanti da un turno all’altro, e l’energia utilizzata è proporzionale al tempo di trattamento, senza sprechi.

Futuro on Quartz Infrared Heating Source

Futuro della tecnologia di riscaldamento a semiconduttori