http://quartz-ir-heat.com/ms/tags/masa-depan/ Recent content in Masa Depan on Quartz Infrared Heating Source Hugo ms Wed, 01 Jul 2026 13:08:31 +0800 http://quartz-ir-heat.com/ms/posts/future-of-semiconductor-heating-tech/ Wed, 01 Jul 2026 13:08:31 +0800 http://quartz-ir-heat.com/ms/posts/future-of-semiconductor-heating-tech/ <p><img src="http://quartz-ir-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Masa depan teknologi pemanasan berasaskan semikonduktor"></p> <p>Di fasiliti pengeluaran semikonduktor, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist sudah cukup untuk merosakkan wafer berukuran 300 mm. Kawalan suhu bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan faktor <a href="https://henruite.com">penting</a> yang menentukan kualiti proses tersebut. Kami telah mencipta platform pemanasan NIR yang mampu mengekalkan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C, agar dimensi penting wafer tetap memenuhi spesifikasi yang ditetapkan, walaupun semasa proses pembakaran yang berlangsung dalam masa singkat.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Kami menggunakan sumber cahaya inframerah dekat (NIR) bersama-sama dengan elemen serat karbon yang bertindak balas dengan cepat, agar kadar peningkatan suhu dapat dilakukan dengan cepat tanpa berlaku penyimpangan. Sistem kawalan berlitar tertutup memastikan suhu kekal stabil pada seluruh permukaan wafer, walaupun proses pembakaran hanya berlangsung dalam masa kurang dari satu minit. Reka bentuk fasiliti ini juga mengambil kira aspek kebersihan: bahan-bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas berbahaya, saluran udara yang disaring, serta permukaan yang tidak menghasilkan zarah-zarah berbahaya semasa operasi. Dengan cara ini, profil suhu dapat diulang setiap kali proses pembakaran dilakukan, dan penggunaan tenaga juga dapat dikawal mengikut masa proses, bukan sekadar untuk mengelakkan pembaziran haba.</p>