<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Menipis on Quartz Infrared Heating Source</title>
		<link>http://quartz-ir-heat.com/ms/tags/menipis/</link>
		<description>Recent content in Menipis on Quartz Infrared Heating Source</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:13:22 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-ir-heat.com/ms/tags/menipis/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanasan untuk menipiskan lapisan wafer menggunakan sinar inframerah</title>
				<link>http://quartz-ir-heat.com/ms/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:13:22 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-ir-heat.com/ms/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-ir-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemanasan untuk menipiskan lapisan wafer menggunakan sinar inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;pengeluaran&lt;/a&gt; wafer, wafer tersebut dipisahkan hingga ketebalannya menjadi 50 µm. Namun, kualiti wafer akan menurun kerana proses pengeringan yang tidak seragam. Profil bahan fotoresist juga berubah apabila suhu semasa proses pengeringan berubah-ubah. Paket yang digunakan untuk melindungi wafer juga boleh rosak apabila suhu semasa proses pengeringan terlalu tinggi. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah ketidakseragaman suhu ini.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang memberikan respons &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;termal&lt;/a&gt; yang cepat dan tepat. Dengan cara ini, suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam beberapa saat sahaja, tanpa berlaku peningkatan suhu yang berlebihan. Di kawasan yang aktif, keseragaman suhu wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C. Repeatabiliti proses juga tetap baik kerana pemancar tersebut berfungsi dengan stabil. Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Kami juga mengurangkan pembentukan zarah-zarah &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;halus&lt;/a&gt; dengan menggunakan tingkap kuarsa yang tertutup rapat serta sistem pengudaraan yang efektif. Ketumpatan tenaga yang digunakan disesuaikan agar cukup untuk membuang pelarut dengan cepat, namun masih cukup lembut untuk mengelakkan tekanan pada permukaan wafer sehingga menyebabkan ia bengkok.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
