Wafer on Quartz Infrared Heating Source

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Tue, 28 Jul 2026 05:12:56 +0800

Menjaga kebersihan bilik kelas kelas 100 yang sebenar-benarnya bersih
Jika anda memanaskan wafer silikon dalam persekitaran kelas 100, anda pasti tahu betapa sukarnya tugas ini. Sekeping serpihan kecil atau sedikit gas yang terlepas pun boleh merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan. Ia sangat mengecewakan. Kebanyakan elemen pemanas biasa tidak sesuai untuk digunakan dalam situasi seperti ini – ia akan retak dan merosakkan hasil pengeluaran.

Itulah sebabnya kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk lampu IR kami.

Mengapa kuarsa penting?
Kami menggunakan silika yang telah difusion. Ia sangat murni, jadi anda tidak perlu risau tentang ion logam yang mungkin terlepas apabila bahan tersebut dipanaskan. Kaca biasa atau bahan murah tidak dapat menahan tekanan haba; ia akan rosak. Bahan yang kami gunakan tetap kukuh, membolehkan sinar IR berfrekuensi rendah sampai ke permukaan wafer secara langsung. Anda akan mendapat haba yang diperlukan, dan lampu tersebut tidak akan mengganggu proses pengeluaran. Tiada pencemaran, tiada masalah.

Reflektor untuk lampu pengeringan wafer

Thu, 23 Jul 2026 12:16:06 +0800

Menghentikan Kegagalan Lampu dalam Proses Pemprosesan Wafer
Sejujurnya, apabila lampu dalam sistem pemprosesan berkapasiti tinggi gagal berfungsi, ia merupakan situasi yang sangat menyusahkan. Bukan sahaja menyebabkan masa henti operasi yang panjang dan bunyi amaran yang mengganggu, tetapi juga menciptakan kekacauan.

Apabila tiub kuarz patah, serpihan kaca dan gas halogen akan jatuh terus ke atas wafer tersebut. Ini akan menyebabkan pencemaran yang serius. Itulah sebabnya kami reka komponen reflektor ini untuk berfungsi sebagai pelindung fizikal.

Bagaimana reflektor berfungsi
Kebanyakan orang menganggap bahawa reflektor hanya berfungsi untuk memantulkan sinar inframerah kembali ke permukaan wafer. Memang betul, tetapi kami merancang reflektor ini agar dapat menahan serpihan-serpihan tersebut. Kami menggunakan bentuk parabola yang mendalam serta pengedap yang ketat. Ia sama seperti kolam penampungan air. Jika tiub kuarz patah akibat tekanan haba, serpihan-serpihan tersebut akan tertinggal di dalam komponen tersebut. Dengan cara ini, wafer akan tetap bersih.

Penderia IR berketepatan tinggi untuk wafer

Wed, 22 Jul 2026 05:06:20 +0800

Jangan biarkan lampu pemanas merosakkan wafer anda

Jika anda menggunakan bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa menyakitkannya situasi ini. Sebuah zarah debu yang sangat kecil pun boleh merosakkan keseluruhan wafer yang ada. Ia sangat menjengkelkan.

Masalahnya ialah lampu IR biasa sering menjadi penyebabnya. Lampu-lampu ini mengeluarkan zarah-zarah mikro dari permukaannya, seolah-olah ia merupakan “kilang debu” di tempat yang paling tidak sesuai untuk berlakunya hal tersebut.

Kami telah menyelesaikan masalah ini dengan menggunakan unsur kuarsa tulen sebagai bahan pembuat lampu pemanas tersebut.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Tue, 21 Jul 2026 09:45:59 +0800

Cara Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Masalah
Mengeringkan wafer sensor MEMS memerlukan keseimbangan yang tepat. Anda perlu menghilangkan air dari wafer tersebut dengan cepat, tetapi jika cara yang digunakan terlalu agresif, ia boleh menyebabkan tekanan haba atau sisa-sisa yang tidak diingini.

Cara yang telah kami temukan ialah dengan menggunakan pemanas inframerah bersama-sama dengan reflektor yang dilapisi emas. Walaupun kedengaran rumit, sebenarnya cara ini bertujuan untuk memastikan haba sampai ke wafer tersebut, bukannya memanaskan bahagian dalam mesin itu sendiri.

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Thu, 09 Jul 2026 03:13:15 +0800

Pendahuluan
Sebenarnya, kami mencipta sistem pemanasan inframerah ini dengan satu tujuan sahaja – untuk memastikan proses pengeluaran semikonduktor berjalan dengan lebih efisien, sambil menggunakan kurang tenaga. Kami ingin memastikan wafer-cetak tersebut mencapai suhu yang tepat dengan cepat, dan dengan kawalan yang sangat tepat. Pada masa yang sama, penggunaan tenaga juga akan berkurangan berbanding kaedah pemanasan lama.

Dalam usaha mencapai kilang yang bebas karbon, perkara ini sangat penting. Anda boleh mencapai matlamat alam sekitar tanpa perlu melambatkan proses pengeluaran. Tiada kompromi. Hanya haba yang bersih dan tepat yang diperlukan untuk memastikan kelancaran proses pengeluaran.

Pemanasan untuk menipiskan lapisan wafer menggunakan sinar inframerah

Thu, 02 Jul 2026 09:13:22 +0800

Di bilik pengeluaran wafer, wafer tersebut dipisahkan hingga ketebalannya menjadi 50 µm. Namun, kualiti wafer akan menurun kerana proses pengeringan yang tidak seragam. Profil bahan fotoresist juga berubah apabila suhu semasa proses pengeringan berubah-ubah. Paket yang digunakan untuk melindungi wafer juga boleh rosak apabila suhu semasa proses pengeringan terlalu tinggi. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah ketidakseragaman suhu ini.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang memberikan respons termal yang cepat dan tepat. Dengan cara ini, suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam beberapa saat sahaja, tanpa berlaku peningkatan suhu yang berlebihan. Di kawasan yang aktif, keseragaman suhu wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C. Repeatabiliti proses juga tetap baik kerana pemancar tersebut berfungsi dengan stabil. Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Kami juga mengurangkan pembentukan zarah-zarah halus dengan menggunakan tingkap kuarsa yang tertutup rapat serta sistem pengudaraan yang efektif. Ketumpatan tenaga yang digunakan disesuaikan agar cukup untuk membuang pelarut dengan cepat, namun masih cukup lembut untuk mengelakkan tekanan pada permukaan wafer sehingga menyebabkan ia bengkok.