Ceramisch infraroodverwarming paneel

Fri, 03 Jul 2026 09:14:49 +0800

Op de productielijn kan een verschil van een halve graad in de temperatuur tijdens het ‘soft bake’proces ertoe leiden dat de randen van de wafers niet meer precies op de gewenste plek komen te zitten. Dit resulteert erin dat veel wafers als afval worden beschouwd. We hebben daarom een keramisch infraroodverwarmingspaneel ontwikkeld om deze variabiliteit te verminderen. Hierdoor volgt het thermische gedrag de voorgeschreven normen, in plaats van te worden bepaald door de omstandigheden rondom het verwarmingselement.

Wat technisch gezien belangrijk is:
We gebruiken keramische infraroodemitters omdat ze snel reageren en de gewenste plekken nauwkeurig kunnen verwarmen. De uniformiteit over het te verwarmen gebied is zelfs submillimeternauwkeurig. Het paneel houdt de temperatuur op het oppervlak van de wafers binnen ±0,1°C. De herhaalbaarheid wordt gewaarborgd door een gesloten regelsysteem en een vaste geometrie van de emitters. De instellingen kunnen binnen minder dan 10 seconden worden aangepast, zodat je gemakkelijk tussen verschillende bewerkingsschappen kunt wisselen. Hierdoor blijft de thermische balans behouden en wordt de kwaliteit van de wafers beschermd. Het paneel is bovendien geschikt voor gebruik in schone ruimtes: er wordt nauwelijks gas uitgestoten en er worden geen deeltjes gegenereerd tijdens het gebruik. Hierdoor blijft de hoeveelheid deeltjes binnen de vereiste grenzen.

Panel on Quartz Infrared Heating Source

Ceramisch infraroodverwarming paneel