Toekomst van halfgeleiderverwarmingstechnologie

Wed, 01 Jul 2026 13:08:31 +0800

Op de productieafdeling is een temperatuurstijging van 0,5°C tijdens het verhitten van de fotoresist voldoende om een 300mm grote chip te verpesten. Thermische controle is geen secundaire taak – het is juist de sleutel voor een succesvol proces. We hebben onze NIR-verwarmingsplatformen zo ontworpen dat de temperatuur op het oppervlak van de chip binnen ±0,1°C blijft. Hierdoor blijven de cruciale afmetingen binnen de vereiste grenzen, zowel tijdens het zachte als het harde verhittingproces.

Wat er echt toe doet We gebruiken near-infrared (NIR)-stralingssystemen in combinatie met snel reagerende koolstofvezelcomponenten. Hierdoor kan de temperatuur snel worden geregeld, zonder dat er sprake is van overschrijdingen. De gesloten circulatiesysteem zorgt voor een constante temperatuur over het hele oppervlak van de chip, zelfs wanneer het verhittingproces minder dan een minuut duurt. Het design van de apparaten houdt rekening met alle aspecten die belangrijk zijn voor een schone omgeving: materialen met weinig uitstotende stoffen, gefilterde luchtpassen en oppervlakken die geen deeltjes produceren tijdens het gebruik. Hierdoor kunnen de verhittingseigenschappen van de chip elke keer opnieuw worden bereikt, en wordt energieverbruik gerelateerd aan de cyclustijd, in plaats van aan verspilde warmte.

Technologie on Quartz Infrared Heating Source

Toekomst van halfgeleiderverwarmingstechnologie