<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Истончение on Quartz Infrared Heating Source</title>
		<link>http://quartz-ir-heat.com/ru/tags/%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%BE%D0%BD%D1%87%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B5/</link>
		<description>Recent content in Истончение on Quartz Infrared Heating Source</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:13:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-ir-heat.com/ru/tags/%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%BE%D0%BD%D1%87%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B5/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагрев для утончения пластин с использованием инфракрасного излучения</title>
				<link>http://quartz-ir-heat.com/ru/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:13:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-ir-heat.com/ru/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-ir-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Нагрев для утончения пластин с использованием инфракрасного излучения&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственном участке пластины смещаются до толщины 50 мкм, но при этом снижается качество готовой продукции из-за неоднородности процесса сушки. Профили фотополимерного слоя меняются из-за неточности процесса нагрева. При резком повышении температуры во время процесса затвердевания материала возникают проблемы с упаковкой. Мы разработали инфракрасные нагреватели для снижения такой тепловой нестабильности.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&#xA;Мы используем коротковолновые инфракрасные излучатели с быстрой реакцией на изменения температуры. Благодаря этому мы можем достичь заданной температуры за несколько секунд и поддерживать её без перегрева. На всей активной зоне толщина пластины остается стабильной в пределах ±0.1°C. Повторяемость процесса также обеспечивается благодаря предсказуемому износу излучателей. Система подходит для чистых помещений класса 1–100. Мы минимизируем образование частиц с помощью герметичных кварцевых стекол и системы контроля выбросов газов. Интенсивность нагрева настраивается так, чтобы достаточно быстро удалить растворители, но при этом не вызывать напряжения на поверхности пластины и её деформации.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
