การทำให้แห้ง on Quartz Infrared Heating Source

เครื่องอบสำหรับวงแหวนเซ็นเซอร์ MEMS

Tue, 21 Jul 2026 09:45:59 +0800

วิธีทำให้แผ่นวัสดุ MEMS แห้งโดยไม่มีปัญหา
การทำให้แผ่นเซ็นเซอร์ MEMS แห้งนั้นเป็นเรื่องที่ต้องหาจุดสมดุลให้ได้ คุณต้องกำจัดน้ำออกให้เร็วที่สุด แต่ถ้าใช้ความร้อนมากเกินไป ก็อาจทำให้เกิดความเครียดทางความร้อน หรือทิ้งสารตกค้างที่ไม่พึงประสงค์ไว้ได้

วิธีที่เราค้นพบก็คือการใช้เครื่องทำความร้อนแบบอินฟราเรดร่วมกับตัวสะท้อนแสงที่เคลือบด้วยทองคำ ดูเหมือนจะซับซ้อน แต่จริงๆ แล้วก็เพื่อให้แน่ใจว่าความร้อนจะไปกระทบกับแผ่นวัสดุโดยตรง แทนที่จะทำให้ส่วนอื่นของเครื่องร้อนขึ้น

ทำไมถึงเลือกทองคำ?
ลองนึกถึงหลอดไฟควอตซ์ธรรมดาดูสิ มันจะปล่อยความร้อนออกมาในทุกทิศทาง ในกรณีนี้ พลังงานส่วนใหญ่ก็จะสูญเปล่าไปเลย
แต่เมื่อเราเคลือบตัวสะท้อนแสงด้วยทองคำที่มีความบริสุทธิ์สูง เราก็สามารถสะท้อนแสงอินฟราเรดกลับมาได้ประมาณ 98% ซึ่งช่วยให้เราสามารถทำให้แผ่นวัสดุแห้งได้เร็วขึ้น

นี่ไม่ใช่เพียงแค่การลดค่าใช้จ่ายด้านไฟฟ้าเท่านั้น แต่ยังช่วยเพิ่มประสิทธิภาพในการทำงานอีกด้วย เมื่อความร้อนถูกกระจายอย่างสม่ำเสมอ ก็จะช่วยให้แผ่นวัสดุแห้งได้เร็วขึ้น และยังช่วยเพิ่มอัตราการผลิตอีกด้วย

ส่วนที่ยาก
แน่นอนว่าคุณไม่สามารถเพิ่มกำลังไฟฟ้าได้เพียงอย่างเดียว แล้วก็ปล่อยไว้แบบนั้นได้
เมื่อมีความร้อนสูงมากขนาดนี้ ตัวเครื่องก็จะได้รับความเสียหาย หากการไหลเวียนของอากาศไม่ดีพอ สายไฟก็อาจไหม้เร็วกว่าที่ควรจะเป็น

เราจึงมุ่งเน้นไปที่การทำให้ขนาดของเครื่องเล็กลง พร้อมกับทำให้บริเวณที่ให้ความร้อนมีประสิทธิภาพสูงสุด จุดมุ่งหมายคือการทำให้ความร้อนกระจายอย่างสม่ำเสมอ คุณไม่อยากให้ขอบของแผ่นวัสดุถูกเผาไหม้ ในขณะที่ตรงกลางยังคงมีความชื้นอยู่

การปรับแต่งให้เหมาะสม
สิ่งสุดท้ายคือการปรับแต่งให้เหมาะสม หากหลอดไฟเบี่ยงเบนไปเพียงไม่กี่มิลลิเมตร จุดศูนย์กลางของแสงก็จะเปลี่ยนไป และก็จะเกิดจุดที่มีอุณหภูมิต่ำขึ้นบนแผ่นวัสดุอีกครั้ง

เราแนะนำให้ใช้ตัวยึดหลอดไฟที่แข็งแรง เพื่อให้หลอดไฟอยู่ในตำแหน่งที่แน่นหนา แม้ว่าระบบจะมีการสั่นสะเทือนก็ตาม นี่คือวิธีที่จะทำให้ความร้อนกระจายอย่างสม่ำเสมอทั่วพื้นผิวของเซ็นเซอร์ในทุกครั้งที่ใช้งาน

โมดูลอินฟราเรดสำหรับการอบแห้งโฟโต้เรซิสต์

Mon, 01 Jun 2026 20:35:30 +0800

บนพื้นที่ผลิต การอบแบบ soft bake ที่มีการเปลี่ยนแปลงแม้เพียงครึ่งองศาก็สามารถส่งผลต่อการควบคุมมิติที่สำคัญและทิ้งคราบหลังการพัฒนาได้ ไม่มีพื้นที่สำหรับการเดาอีกต่อไป เราออกแบบโมดูลอบแห้งโฟโตเรซิสต์ด้วยรังสีอินฟราเรดเพื่อขจัดความแปรปรวนดังกล่าว อำนวยความสะดวกให้เกิดพฤติกรรมความร้อนที่ทำซ้ำได้เมื่อความสม่ำเสมอระดับเวเฟอร์และวินัยในห้องคลีนรูมเป็นมาตรฐานที่ยอมรับได้เท่านั้น
สิ่งที่สำคัญจริงๆ ภายในระบบ
เราใช้รังสีอินฟราเรดคลื่นสั้นกับอิเล็กเตอร์ควอตซ์ที่ไม่มีฮาโลเจน ส่งพลังงานโดยตรงเข้าสู่ฟิล์มเรซิสต์ ผลลัพธ์คือความสม่ำเสมอระดับเวเฟอร์ภายใน ±0.1°C ทั่วพื้นผิวการอบ และค่าการตั้งอุณหภูมิที่ล็อกคงที่ตลอดระยะเวลา soft bake และ hard bake โมดูลนี้ติดตั้งในห้องคลีนรูมระดับ Class 1–100 โดยไม่เพิ่มจำนวนอนุภาค เนื่องจากการจัดวางอิเล็กเตอร์และเส้นทางการไหลของอากาศช่วยลดการปั่นป่วนและป้องกันการหลุดร่วงของอนุภาค หลังการใช้งานมากกว่า 5,000 ชั่วโมง ความเปลี่ยนแปลงของความเข้มข้นยังต่ำกว่า 5% จึงทำให้งบประมาณความร้อนในแต่ละล็อตคงที่
เหตุผลที่โมดูลนี้ทนทานในกระบวนการลิโธกราฟี
ในสายการผลิตลิโธกราฟี โมดูลนี้ช่วยลดเวลาการอบในขณะที่ควบคุมการกระจายของ CD ให้เข้มงวดขึ้น และลดข้อบกพร่องจากสารละลายตกค้าง ส่งผลให้การควบคุมกระบวนการเข้มงวดขึ้น ลดจำนวนล็อตที่ต้องทำซ้ำ และรักษาค่ามาตรฐานที่เสถียร การใช้พลังงานลดลงเนื่องจากอินฟราเรดให้ความร้อนโดยตรงกับเรซิสต์ ไม่ใช่ผนังห้องอบ ความน่าเชื่อถือถูกออกแบบให้รองรับการทำงาน 24/7 พร้อมช่วงเวลาบำรุงรักษาที่คาดการณ์ได้ และไม่มีเวลาหยุดทำงานจากความไม่เสถียรของการเปลี่ยนอุณหภูมิ
สิ่งที่ต้องวางแผนล่วงหน้า
โมดูลนี้ติดตั้งเข้ากับสาย coat/bake ที่มีอยู่ผ่านอินเทอร์เฟซทางกลและไฟฟ้ามาตรฐาน แต่ขนาดกะทัดรัดทำให้ต้องพิจารณาเส้นทางการไหลของอากาศและการระบายอากาศตั้งแต่ต้น การติดตั้งและปรับตั้งใช้เวลาสั้น—คุณจะต้องปรับกำลังไฟของหลอด อุณหภูมิที่ต้องการ และลูปฟีดแบ็กของอุณหภูมิให้สอดคล้องกับชุดเรซิสต์ เมื่อปรับตั้งเสร็จแล้ว หน้าต่างกระบวนการจะเข้มงวดขึ้นและลายเซ็นการอบจะกลายเป็นสิ่งที่เชื่อถือได้ในแต่ละล็อตงาน