<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Рiзьблення on Quartz Infrared Heating Source</title>
		<link>http://quartz-ir-heat.com/uk/tags/%D1%80i%D0%B7%D1%8C%D0%B1%D0%BB%D0%B5%D0%BD%D0%BD%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Рiзьблення on Quartz Infrared Heating Source</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:13:22 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-ir-heat.com/uk/tags/%D1%80i%D0%B7%D1%8C%D0%B1%D0%BB%D0%B5%D0%BD%D0%BD%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагрівання для тоншання ваферів інфрачервоними променями</title>
				<link>http://quartz-ir-heat.com/uk/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:13:22 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-ir-heat.com/uk/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-ir-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Нагрівання для тоншання ваферів інфрачервоними променями&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії пластини розріджуються до товщини 50 мкм. Однак при цьому щільність продукції зменшується через нерівномірне сушіння. Профілі фотолегувального шару також змінюються через нерівномірне нагрівання. У процесі упакування можуть виникати проблеми через різкі перепади температури під час висихання матеріалу. Ми створили наведені нами інфрачервоні нагрівачі для усунення цих проблем.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим з технічної точки зору:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми використовуємо наведені нами інфрачервоні еміттери з швидкою та прямою реакцією на температуру. Це дозволяє досягти потрібної температури за кілька секунд та підтримувати її без перевищень. На всій активній зоні товщина пластини залишається стабільною в межах ±0,1°C. Повторюваність процесу також є високою, оскільки еміттери старіють прогнозовано. Система підходить для чистих приміщень класу 1–100. Кількість частинок, які утворюються під час процесу, зменшується завдяки закритим кварцовим вікнам та системі контролю вивітрювання. Щільність потужності налаштовується так, щоб достатньо тепла було для швидкого виведення розчинників, але водночас достатньо слабке тепло, щоб не пошкодити поверхню пластини.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
