Bộ sưởi CVD (Phương pháp lắng đọng hơi hóa học)

Sun, 28 Jun 2026 05:59:47 +0800

Trong môi trường sản xuất, sự thay đổi nhiệt độ trong buồng chứa chỉ 0,5°C cũng có thể ảnh hưởng tiêu cực đến chất lượng sản phẩm. Chúng tôi thiết kế bộ sưởi CVD này nhằm đối phó với thực tế rằng mọi quy trình sản xuất đều phụ thuộc vào độ chính xác về nhiệt độ và kích thước.

Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật
Bộ sưởi này kết hợp giữa công nghệ sưởi bằng tia hồng ngoại bước sóng ngắn với bộ phận được bao bọc bằng thạch anh. Nhờ đó, độ đồng đều của nhiệt độ trên bề mặt wafer được duy trì ở mức ±0,1°C. Nhiệt độ có thể ổn định trong vòng dưới 10 giây, và độ lặp lại của nhiệt độ vẫn ở mức ±0,2°C sau hàng nghìn lần vận hành.

Hơi Nước on Quartz Infrared Heating Source

Bộ sưởi CVD (Phương pháp lắng đọng hơi hóa học)