Im Produktionsbereich werden die Wafer auf eine Dicke von 50 µm herabgedünnt. Dabei geht jedoch die Qualität der Wafer zurück – schließlich erfolgt das Trocknen nicht gleichmäßig. Die Profilierung des Fotolacks ändert sich, wenn die Temperatur beim Trocknen ungleichmäßig ist. Zudem brechen die Füllstoffe in den Verpackungen, wenn die Heiztemperatur zu hoch ist. Wir haben daher Infrarotheizer entwickelt, um diese thermischen Unwägheiten zu beseitigen.
Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler mit einer schnellen, direkten Wärmereaktion. Dadurch wird das gewünschte Temperaturniveau innerhalb von Sekunden erreicht – und dabei wird keine Überschreitung dieses Niveaus verursacht. In der aktiven Zone bleibt die Gleichmäßigkeit der Temperatur bei ±0,1 °C. Die Wiederholgenauigkeit bleibt konstant, da die Heizer eine vorhersehbare Alterung aufweisen. Das System eignet sich für Reinräume der Klasse 1–100. Durch verschlossene Quarzfenster sowie einen geringen Gasausstoß wird die Bildung von Partikeln minimiert. Die Leistungsdichte wird so eingestellt, dass genug Wärme vorhanden ist, um Lösungsmittel schnell zu entfernen – doch gleichzeitig wird verhindert, dass die Rückseite des Spiegels beschädigt wird.
Warum es bei uns funktioniert:
Beim Trocknen der Wafer treffen die Infrarotstrahlen direkt auf die Wasserschicht. Dadurch verkürzt sich der Trocknungsprozess und die benötigte Wärme sinkt. Bei der Behandlung des Fotolacks sorgen die Infrarotstrahlen dafür, dass die richtigen Temperaturen für das Trocknen erreicht werden – dadurch bleiben die Abmessungen und Profile der Wafer konstant. Bei der Verpackung ermöglichen die Infrarotstrahlen eine kontrollierte Aushärtung – ohne thermische Schäden. Der Vorteil: Weniger Nacharbeiten, stabile Qualitätsstandards sowie eine planbare Produktionsrate. Zudem sinkt der Energieverbrauch, da die Heizer weniger Zeit im Leerlauf verbringen und eher im stationären Zustand arbeiten.
Was Sie im Voraus wissen müssen:
Infrarotstrahlen benötigen eine Sichtlinie – daher muss die Anordnung der Heizer der Geometrie des Waferstapels entsprechen. Achten Sie außerdem auf reflektierende Elemente sowie saubere Quarzoberflächen – sonst entstehen Hotspots an den Rändern. Planen Sie außerdem eine eigene Stromversorgung sowie ein effektives Thermomanagement, damit die Wände des Raumes kühl bleiben. Sobald alles richtig eingestellt ist, ist das Prozessfenster groß – doch die Toleranzen bei der Einrichtung sind eng.