
फैब फ्लोर पर, फोटोरेजिस्ट को गर्म करने की प्रक्रिया के दौरान मात्र 0.5°C का अंतर ही 300 मिमी आकार के वेफरों को नष्ट करने के लिए पर्याप्त है। तापमान नियंत्रण कोई साधारण कार्य नहीं है – यह तो प्रक्रिया के संचालन हेतु आवश्यक शर्त है। हमने ऐसा NIR हीटिंग प्लेटफॉर्म विकसित किया है, जिससे वेफरों पर तापमान ±0.1°C के भीतर ही रहता है; इससे सॉफ्ट बेक एवं हार्ड बेक प्रक्रियाओं के दौरान वेफरों के आकार में कोई परिवर्तन नहीं होता।
वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?
हम नियर-इन्फ्रारेड (NIR) विकिरण स्रोतों का उपयोग करते हैं, जिसके साथ त्वरित प्रतिक्रिया देने वाले कार्बन फाइबर तत्व भी होते हैं। इससे तापमान में तेज़ बदलाव होता है, लेकिन वह नियंत्रण में ही रहता है। क्लोज्ड-लूप नियंत्रण प्रणाली के कारण वेफरों पर तापमान स्थिर रहता है, भले ही प्रक्रिया का समय एक मिनट से भी कम हो। क्लीनरूम संबंधी आवश्यकताओं को भी डिज़ाइन में ही ध्यान में रखा गया है – कम गैस उत्सर्जन वाली सामग्रियाँ, फिल्टर्ड वायु पथ, एवं ऐसी सतहें जिनसे प्रक्रिया के दौरान कोई कण न उत्पन्न हों। इससे बेकिंग प्रक्रिया नियमित रूप से ही होती है, एवं ऊर्जा का उपयोग भी अनावश्यक ऊष्मा उत्पन्न करने के बजाय प्रक्रिया के समय के अनुसार ही होता है।
इसका महत्व क्यों है?
लिथोग्राफी एवं फोटोरेजिस्ट प्रसंस्करण में, तापमान की समानता ही CD एवं वेफरों के आकार की नियमितता को निर्धारित करती है। हमारे NIR हीटर, उन्नत चिपों की आवश्यकताओं के अनुरूप हैं; इससे लाइन-एज रफनेस पर बेहतर नियंत्रण होता है, एवं पुनः प्रसंस्करण की आवश्यकता कम हो जाती है। इसके परिणामस्वरूप, अस्थिरता कम हो जाती है, उत्पादन स्थिर रहता है, एवं उपकरण लगातार काम करता रहता है। पैकेजिंग लाइनों में भी यही सटीकता उत्पादों की गुणवत्ता को बनाए रखने में मदद करती है – इससे अपव्यय एवं पुनः प्रसंस्करण की आवश्यकता कम हो जाती है।
क्या योजना बनाने की आवश्यकता है?
यह प्लेटफॉर्म अंतरराष्ट्रीय सेमीकंडक्टर उपकरण मानकों के अनुरूप है, एवं मौजूदा उपकरणों में भी इसे आसानी से उपयोग में लाया जा सकता है। लेकिन इसके एकीकरण हेतु क्लीनरूम संबंधी आवश्यकताओं, वायु प्रवाह व्यवस्था एवं ऊर्जा व्यवस्था पर ध्यान देना आवश्यक है। प्रक्रिया-पैरामीटरों को समायोजित करने हेतु थोड़ा समय आवश्यक है; एक बार ये पैरामीटर सेट हो जाने के बाद, सिस्टम बिना किसी समायोजन के ही काम करता रहता है।