Essiccazione rapida, senza problemi
Nel ambiente di produzione, la velocità è fondamentale. È necessaria una lampada a infrarossi in grado di produrre calore in modo rapido ed equilibrato, senza però il rischio che la lampada si rompa o che le wafer vengano contaminate. Abbiamo progettato queste lampade per gestire l’intenso calore prodotto durante il processo di essiccazione, mantenendo al contempo l’integrità del processo stesso.
Potenza e dimensioni: progettate per funzionare in condizioni estreme
Abbiamo progettato queste lampade per affrontare situazioni di essiccazione continua. La tensione elevata di 400V garantisce prestazioni stabili e ad alta corrente, permettendo alla lampada di rispondere immediatamente ai tempi di trattamento ridotti. La lunghezza del tubo, pari a 300 mm, permette di creare una zona di riscaldamento ben definita, adatta perfettamente ai supporti standard per le wafer.
Con una potenza di 2500 W, la lampada è davvero potente: assicura quindi un’essiccazione rapida. Tuttavia, tale potenza richiede un sistema di raffreddamento adeguato. Assicuratevi che ci sia un flusso d’aria sufficiente e che venga gestito correttamente il calore all’interno della camera di lavorazione. Altrimenti, i componenti circostanti potrebbero danneggiarsi e la vita utile della lampada ne risentirà.
Progettate per resistere alle sollecitazioni
Il tubo stesso è realizzato in quarzo, scelto per la sua capacità di resistere a cambiamenti improvvisi di temperatura e per le sue ottime prestazioni nella fascia dei raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda. Il riempimento con gas allogenico mantiene stabile il filamento e prolunga la vita utile della lampada, riducendo i guasti imprevisti.
La vernice utilizzata è stata scelta apposta per mantenere un riscaldamento uniforme e per evitare che i particolari presenti all’interno della lampada si disintegrino a causa del calore. Per garantire una perfetta tenuta, il connettore R7 assicura che tutto rimanga fermo, anche in caso di vibrazioni o espansioni termiche. Inoltre, l’opzione di terminazione Sk15 rende semplice il cablaggio, riducendo così il rischio di formazione di punti caldi nelle zone di collegamento.
Mantenete il processo in funzione, sempre
Quando si effettua l’essiccazione delle wafer, è fondamentale avere un calore costante e assoluta assenza di contaminazioni. Il design delle nostre lampade permette di gestire i rischi legati a possibili rotture, grazie al controllo della pressione interna, degli shock termici e delle sollecitazioni meccaniche. In caso di guasto, il sistema di contenimento previene che i frammenti di quarzo finiscano nella zona di lavorazione.
I vantaggi per voi? Meno fermate improvvise, meno lavori di riparazione e un rischio molto minore di contaminazione delle wafer. Utilizzatele come sostituti diretti, collegatele correttamente e procedete con fiducia.