Nella sala di produzione, i wafer vengono assottigliati fino a 50 µm; tuttavia, la qualità del prodotto peggiora a causa di una essiccazione non uniforme. I profili del fotoresistono cambiano quando le condizioni di essiccazione non sono costanti. Inoltre, i materiali utilizzati per il packaging possono rompersi a causa di picchi di temperatura durante il processo di cura. Abbiamo progettato dei riscaldatori a infrarossi per eliminare queste incertezze termiche.
Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Utilizziamo emettitori a onde corte a infrarossi, caratterizzati da una risposta termica rapida e diretta. In questo modo, riusciamo ad arrivare al valore desiderato in pochi secondi, mantenendo tale valore senza che si verifichino sovraccarichi termici. Nella zona attiva, l’uniformità della temperatura sui wafer rimane entro ±0,1°C; inoltre, la ripetibilità tra diverse sessioni di produzione è alta, grazie alla previsionabile degradazione degli emettitori stesso. Il sistema è adatto per ambienti puliti di classe 1–100. Per ridurre la generazione di particelle, utilizziamo finestre in quarzo sigillate e sistemi di gestione del calore efficaci. La densità di potenza è regolata in modo da permettere una essiccazione rapida dei solventi, ma senza causare stress sulla superficie posteriore dei wafer.
Perché funziona nei nostri impianti
Durante l’essiccazione dei wafer, gli infrarossi agiscono direttamente sulla pellicola d’acqua presente sui wafer, riducendo così il tempo necessario per l’essiccazione e diminuendo il consumo energetico. Nel processo di trattamento del fotoresistone, gli infrarossi permettono di mantenere le temperature ideali per una corretta formazione delle dimensioni critiche e dei profili delle pareti laterali dei wafer. Durante il processo di packaging, gli infrarossi garantiscono temperature controllate, evitando shock termici. I vantaggi sono: meno lavorazioni di rettifica, valori stabili dei difetti presenti nei wafer, e una produzione più efficiente. Inoltre, il consumo energetico diminuisce, poiché i riscaldatori funzionano meno e trascorrono più tempo in stato stabile.
Cosa bisogna sapere in anticipo
Gli infrarossi richiedono una visione diretta verso il bersaglio; quindi, la posizione degli emettitori deve corrispondere alla geometria del supporto su cui sono posizionati i wafer. È necessario utilizzare superfici riflettenti e materiali in quarzo puliti; altrimenti, si creeranno punti caldi ai bordi dei wafer. È inoltre fondamentale disporre di un sistema di alimentazione energetica dedicato e di un sistema di gestione del calore efficace, per mantenere fresche le pareti della camera di produzione. Una volta che tutto è allineato, la gamma di parametri di produzione diventa molto ampia, ma i limiti di tolleranza sono stretti.