Di bilik pengeluaran wafer, sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah pun boleh menyebabkan ketidakkonsistenan pada ketebalan garisan pada permukaan wafer, sehingga banyak wafer menjadi tidak berguna. Kami mencipta panel pemanas inframerah berasaskan seramik untuk mengatasi masalah ini. Dengan cara ini, tingkah laku terma akan mengikut spesifikasi yang ditetapkan, bukannya dipengaruhi oleh keadaan papan pemanas tersebut.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan pemanas inframerah berasaskan seramik kerana ia bertindak balas dengan cepat dan memanaskan kawasan yang diperlukan dengan tepat, dengan tahap keseragaman yang sangat tinggi. Panel ini dapat mengekalkan suhu permukaan wafer pada tahap ±0.1°C, dan keseragaman ini dicapai melalui kawalan berkelompok serta geometri pemanas yang tetap.
Nilai tetapan suhu dapat diubah dalam masa kurang dari 10 saat, membolehkan proses pembakaran wafer dilakukan dengan lebih lancar. Ini membantu menjaga kualiti wafer dan mengelakkan kerugian akibat ketidakkonsistenan suhu. Reka bentuk panel ini juga sesuai untuk digunakan di bilik bersih, kerana ia menghasilkan sedikit gas berbahaya dan tiada zarah yang terhasil semasa operasi. Dengan itu, ia memenuhi syarat-syarat kelas kebersihan 1–100.
Mengapa ia sesuai untuk masalah yang dihadapi dalam proses pengeluaran wafer
Panel ini dapat menyelesaikan masalah yang timbul semasa proses litografi dan pemprosesan fotorezist, iaitu masalah berkaitan proses pembakaran wafer yang perlu dilakukan secara konsisten dan bersih. Tahap keseragaman yang tinggi bermaksud kurangnya kecacatan pada permukaan wafer, serta pengurangan jumlah wafer yang gagal diproses.
Tindak balas yang cepat memendekkan masa proses tanpa menyebabkan masalah, dan output yang stabil pula membantu mengurangkan kerja pembaikan. Selain itu, tenaga juga dapat dijimatkan kerana hanya kawasan yang diperlukan sahaja yang dipanaskan, tanpa pembaziran tenaga. Dalam proses pembungkusan dan pengeringan wafer, ketepatan ini membantu meningkatkan kualiti wafer dan kecekapan pengeluaran.
Apa yang perlu dipastikan
Panel ini boleh digunakan bersama-sama dengan papan pemanas dan modul pembakaran sedia ada, namun penyesuaian posisi panel agar selaras dengan permukaan wafer adalah sangat penting. Toleransi posisi panel haruslah kurang dari 0.1 mm; jika tidak, ia akan menjejaskan kualiti wafer.
Pastikan voltan operasi dan sistem penyejukan berada dalam julat yang ditetapkan. Sistem bekalan kuasa juga perlu dipastikan bersih dan kering agar prestasi panel tetap stabil. Jika kelembapan udara tinggi, anda boleh menambah lapisan pelindung tanpa menjejaskan kelajuan tindak balas panel.
Panel ini direka untuk bertahan lebih dari 5,000 jam penggunaan, dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Penyelenggaraan panel juga perlu dilakukan secara berkala, bukan hanya ketika berlaku kerosakan.