Di bilik pengeluaran wafer, wafer tersebut dipisahkan hingga ketebalannya menjadi 50 µm. Namun, kualiti wafer akan menurun kerana proses pengeringan yang tidak seragam. Profil bahan fotoresist juga berubah apabila suhu semasa proses pengeringan berubah-ubah. Paket yang digunakan untuk melindungi wafer juga boleh rosak apabila suhu semasa proses pengeringan terlalu tinggi. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah ketidakseragaman suhu ini.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang memberikan respons termal yang cepat dan tepat. Dengan cara ini, suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam beberapa saat sahaja, tanpa berlaku peningkatan suhu yang berlebihan. Di kawasan yang aktif, keseragaman suhu wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C. Repeatabiliti proses juga tetap baik kerana pemancar tersebut berfungsi dengan stabil. Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Kami juga mengurangkan pembentukan zarah-zarah halus dengan menggunakan tingkap kuarsa yang tertutup rapat serta sistem pengudaraan yang efektif. Ketumpatan tenaga yang digunakan disesuaikan agar cukup untuk membuang pelarut dengan cepat, namun masih cukup lembut untuk mengelakkan tekanan pada permukaan wafer sehingga menyebabkan ia bengkok.
Mengapa ia berkesan di tempat kami bekerja
Dalam proses pengeringan wafer, sinar inframerah bertindak secara langsung pada lapisan air yang ada pada wafer, sehingga proses pengeringan menjadi lebih cepat dan penggunaan tenaga berkurangan. Dalam proses pemrosesan bahan fotoresist, sinar inframerah membantu memastikan suhu yang tepat semasa proses pengeringan, sekaligus memastikan dimensi wafer tetap konsisten. Dalam proses pembungkusan, sinar inframerah membantu mencipta profil pemanasan yang terkawal, tanpa menyebabkan gangguan termal. Hasilnya, jumlah wafer yang perlu diperbaiki berkurangan, kualiti wafer menjadi lebih stabil, dan kelajuan pengeluaran dapat diramalkan dengan lebih tepat. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana pemanas hanya perlu beroperasi dalam keadaan stabil.
Apa yang perlu anda ketahui terlebih dahulu
Sinar inframerah hanya dapat bergerak sepanjang garis pandang, jadi penempatan pemancar perlu disesuaikan dengan geometri wafer. Pastikan permukaan reflektif dan permukaan kuarsa sentiasa bersih; jika tidak, akan timbul titik-titik panas di bahagian tepi wafer. Anda perlu merancang sistem bekalan tenaga dan pengurusan haba yang efektif agar dinding bilik tetap sejuk. Setelah semuanya disusun dengan betul, proses pengeluaran akan berjalan lancar—namun toleransi penyetelan harus sangat ketat.