Inleiding
Wij hebben infraroodverwarmingssystemen ontwikkeld om één reden: zodat uw halfgeleiderproductie efficiënter kan werken, terwijl er minder energie wordt verbruikt. Echt waar. Het gaat erom dat de wafers snel op de juiste temperatuur komen, met een nauwkeurige controle. Hierdoor wordt veel minder energie verbruikt vergeleken met oude verwarmingssystemen.
In de strijd naar een koolstofneutrale productiefaciliteit is dit belangrijk. U kunt uw milieudoelstellingen bereiken zonder dat u de productiesnelheid moet verlagen. Er zijn geen compromissen nodig. U krijgt schone, nauwkeurige warmte die ervoor zorgt dat uw productieefficiëntie en kwaliteit op het gewenste niveau blijven.
Technische details
Wij gebruiken 400V om deze verwarmers te laten werken. Waarom is dat belangrijk? Omdat dit meer vermogen oplevert, zonder dat er veel stroom nodig is. Minder stroom betekent dunner snoer en minder verliezen in het elektrische systeem. Er wordt minder warmte verspild in het elektrische systeem. Meer warmte beschikbaar op de plek waar het nodig is – op de wafer.
Het voordeel? Een hoge warmtedichtheid in een klein oppervlak. De wafer wordt snel op de juiste temperatuur gebracht, en er zijn geen hete punten. Er hoeft niet lang opgewacht te worden.
Materiaal en ontwerp
We hebben gekozen voor een kortegolfinfraroodstraler die is omhuld door kwarts. Daarnaast wordt er een speciale laag gebruikt om het lichtspectrum vorm te geven. Deze laag zorgt ervoor dat de juiste golflengten worden gebruikt, zodat de warmte precies overeenkomt met wat silicium kan absorberen. Binnenin zit een halogeencapsule die ervoor zorgt dat de uitgangsspanning stabiel blijft, zodat er geen plotselinge storingen optreden.
Verder is er nog de R7s-aansluiting. Hij is zeer robuust en blijft stevig zitten onder hoge temperaturen, herhaaldelijk gebruik en trillingen. Er vindt geen losraken of kortsluiting plaats. Hierdoor blijft de lamp constant functioneren.
Toepassing en voordelen
In de productiefaciliteit heeft de verwarmingsunit maar één taak: de gewenste temperatuur zo snel mogelijk bereiken en deze behouden. Ons infraroodsysteem doet dit precies. Hierdoor wordt de tijd die nodig is om de wafer op temperatuur te brengen verkort, en wordt er minder energie verbruikt. Dit leidt tot een beter thermisch profiel, waardoor er minder procesproblemen en herwerkingen nodig zijn.
Maar er is één ding om rekening mee te houden: deze hoge warmtedichtheid vereist een goed ontworpen koelsysteem om de warmte in de ruimte onder controle te houden.
En het beste van alles? Het systeem kan direct worden ingezet als vervanging voor het huidige systeem. Er is geen grote herontwerp nodig. U hoeft alleen maar het systeem te vervangen en ermee verder te gaan.
Als u wilt dat uw productiefaciliteit milieuvriendelijker wordt, leiden de energiebesparingen rechtstreeks tot minder CO₂-uitstoot per wafer. Dat is echt vooruitgang. Uw productiefaciliteit komt daarmee dichterbij koolstofneutraliteit – zonder dat de prestaties worden geschaad.