Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C dalam ruang penghasilan boleh menjejaskan kualiti produk yang dihasilkan. Kami mencipta pemanas CVD ini kerana setiap proses pengeluaran bergantung pada ketepatan suhu yang sangat tinggi, iaitu dalam lingkungan angstrom dan darjah Celsius.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Pemanas ini menggabungkan kaedah pemanasan inframerah gelombang pendek dengan elemen yang dilindungi oleh lapisan kuarsa. Dengan cara ini, ketekalan suhu di peringkat wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C. Suhu akan stabil dalam masa kurang dari 10 saat, dan ketepatan suhu tetap berada dalam lingkungan ±0.2°C walaupun proses berulang ribuan kali.
Keserasian dengan bilik bersih juga merupakan faktor penting. Bahan-bahan yang digunakan mempunyai kadar pelepasan gas yang rendah, struktur pembinaan yang mematuhi standard kelas 1–100, serta permukaan yang bebas daripada zarah-zarah halus. Tiada penghasilan zarah halus bukan sekadar slogan – ia merupakan syarat yang mesti dipatuhi, dan ia diperiksa melalui pemantauan secara langsung.
Mengapa pemanas ini sesuai untuk digunakan dalam proses pengeluaran
Dalam proses CVD, kestabilan terma mempengaruhi ketebalan lapisan, tekanan, dan kekerapan kecacatan. Pemanas ini membantu mengekalkan kestabilan terma, sehingga proses penghasilan dapat berjalan dengan lancar tanpa gangguan.
Tindak balas yang cepat membolehkan masa tunggu antara setiap batch dikurangkan. Selain itu, titik suhu yang stabil membantu proses-proses lain, terutamanya proses pembakaran bahan fotorezist. Proses pembakaran yang dilakukan secara perlahan atau cepat tetap berada dalam spesifikasi yang ditetapkan, sekali gus mengurangkan keperluan untuk membaiki produk yang rosak.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana haba dihasilkan hanya apabila diperlukan, tanpa berlaku pelbagai masalah berkaitan suhu. Pemanas ini direka untuk beroperasi 24/7 tanpa henti.
Apa yang perlu diperhatikan semasa pemasangan
Pemasangan perlu dilakukan dengan teliti agar pemanas berada pada posisi yang tepat di kawasan panas ruang pengeluaran. Selain itu, perlindungan terhadap gelombang RF/EMI juga perlu dipastikan. Jika hal ini tidak dilakukan dengan betul, ia boleh menyebabkan ketidakteraturan kecil yang akan muncul kemudian.
Anda perlu meluangkan masa yang singkat untuk menyesuaikan parameter PID agar sesuai dengan ciri-ciri ruang pengeluaran dan aliran gasnya. Setelah itu, pemanas ini akan berfungsi dengan baik. Namun, antaramuka termal perlu dianggap sebagai sebahagian daripada proses pengeluaran, bukan sekadar komponen tambahan.