Einführung
Wir haben Infrarot-Heizsysteme entwickelt – aus einem einzigen Grund: Damit Ihre Halbleiterproduktionsanlage effizienter arbeiten kann, unter gleichzeitiger Reduzierung des Energieverbrauchs. Wir sprechen davon, die Wafer schnell auf die richtige Temperatur zu bringen – mit präziser Kontrolle. Dabei wird deutlich weniger Energie verbraucht als bei herkömmlichen Heizsystemen.
Im Wettlauf zu einer kohlenstoffneutralen Fertigungshalle ist das wichtig. So können Sie Ihre Umweltziele erreichen, ohne die Produktionsgeschwindigkeit zu verringern. Es gibt keine Kompromisse – nur saubere, präzise Wärme, die dazu beiträgt, dass die Produktionsgeschwindigkeit und die Ausbeute genau dort bleiben, wo sie sein sollen.
Technische Details
Wir betreiben diese Heizgeräte mit 400 V. Warum ist das wichtig? Weil dies eine höhere Leistung ermöglicht, ohne einen hohen Stromverbrauch. Weniger Strom bedeutet dünneres Verkabelungsmaterial und weniger Verluste im Stromkreis. Dadurch entsteht weniger verschwendete Wärme im elektrischen System. Die Wärme kommt genau dorthin, wo sie benötigt wird – auf die Wafer.
Der Vorteil: Hohe Wärmestärke in einem kleinen Raumvolumen. Dadurch erfolgt eine schnelle Erhitzung der Wafer – und die Wärme verteilt sich gleichmäßig über die gesamte Fläche der Wafer. Keine Hotspots, kein Warten.
Materialien und Design
Wir haben Infrarotstrahler verwendet, die in eine Quarzkapsel eingebettet sind. Zudem wurde eine spezielle Beschichtung hinzugefügt, die das Lichtspektrum beeinflusst. Diese Beschichtung verstärkt die richtigen Wellenlängen, sodass die Wärme genau dem entspricht, was Silizium aufnimmt. Im Inneren sorgt eine Halogenkapsel dafür, dass die Leistung konstant bleibt – ohne plötzliche Überhitzungen.
Außerdem gibt es den R7s-Anschluss. Er ist sehr robust – er hält auch bei hohen Temperaturen, wiederholten Betriebszyklen sowie Vibrationen stand. Dadurch bleibt die Lampe immer stabil und zuverlässig in ihrem Betrieb.
Anwendung und Vorteile
In der Fertigung hat der Waferheizer nur eine Aufgabe: Die gewünschte Temperatur schnell zu erreichen und dort zu halten. Unser Infrarot-System erledigt genau das. Dadurch wird die Zeit, die für die Erhitzung benötigt wird, reduziert – und gleichzeitig wird weniger Energie verbraucht.
Das Ergebnis ist ein stabileres thermisches Verhalten – was wiederum zu weniger Prozessabweichungen und weniger Nacharbeiten führt.
Aber Achtung: Bei solch hoher Wärmestärke ist ein geeignetes Kühlsystem erforderlich, um die Temperatur im Behälter unter Kontrolle zu halten.
Und das Beste daran: Das System kann einfach als Ersatz für das vorhandene System eingesetzt werden. Es muss nicht die gesamte Anlage umgestaltet werden – man muss es einfach einbauen und weitermachen.
Wenn Sie eine grünere Fabrik anstreben, führen die Energieeinsparungen direkt zu geringerer CO₂-Emission pro Wafer. Das ist echter Fortschritt – Ihre Fabrik kommt somit der Kohlenstoffneutralität näher, ohne dass die Leistung beeinträchtigt wird.