Mengapa kita beralih daripada penggunaan udara panas kepada teknologi IR dalam proses pengeluaran semikonduktor
Jika anda pernah terlibat dalam proses pengeluaran semikonduktor, anda pasti tahu tentang kelemahan penggunaan udara panas. Secara asasnya, kaedah ini melibatkan pemanasan udara terlebih dahulu, dengan harapan haba tersebut dapat disalurkan ke wafer dengan efektif. Namun, proses ini memerlukan masa yang lama. Ia sama seperti cuba memanaskan bilik menggunakan pemanas ruang – udara perlu menjadi panas terlebih dahulu sebelum objek di dalam bilik itu panas.
Teknologi pemanasan inframerah (IR) pula mengelakkan keperluan untuk menggunakan udara sebagai medium pemanasan. Energi dipancarkan terus ke permukaan wafer. Tidak perlu menunggu udara menjadi panas terlebih dahulu.
Waktu merupakan faktor penting
Kebelakangan utama penggunaan udara panas adalah masa yang diperlukan untuk proses pemanasan. Anda perlu menunggu beberapa minit, atau bahkan lebih lama, agar suhu di dalam bilik pencucian wafer mencapai tahap yang diinginkan. Ini merupakan proses yang memakan masa.
Sebaliknya, lampu IR boleh digunakan secara serta-merta. Apabila suis dihidupkan, suhu yang diinginkan akan dicapai dalam masa beberapa saat sahaja. Dalam proses pengeluaran skala besar, penjimatan masa sebanyak 30 saat mungkin kedengaran tidak banyak, tetapi jika dikira untuk ribuan batch pengeluaran, ia merupakan penjimatan yang sangat besar.
Pemanasan yang tepat di lokasi yang diperlukan
Kita semua pernah menghadapi masalah “titik sejuk” pada wafer berukuran 300mm. Dengan penggunaan udara panas, kita perlu mereka bentuk sistem pengaliran udara yang kompleks agar bahagian tepi wafer juga mendapat haba yang cukup.
Dengan teknologi IR, kita boleh meletakkan lampu-lampu tersebut di posisi tertentu untuk memastikan haba disalurkan ke lokasi yang diinginkan. Ini membolehkan kita mengawal pengagihan haba dengan lebih baik, tanpa perlu menggunakan sistem pengaliran udara yang rumit. Selain itu, saiz peralatan yang digunakan juga lebih kecil. Kita boleh mengelakkan penggunaan blower dan saluran udara yang besar, sekali gus mengembalikan ruang di bilik bersih tersebut.
Kelemahan teknologi IR
Namun, IR bukanlah penyelesaian sempurna untuk segala masalah. Kerana haba yang dihasilkan sangat tinggi, terdapat risiko permukaan wafer terbakar jika pengawal suhu tidak dikonfigurasikan dengan betul. Anda memerlukan alat pengukur suhu yang cepat untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku.
Selain itu, lampu IR memerlukan arus elektrik yang tinggi apabila dihidupkan. Jika panel elektrik anda sudah lama atau tidak mencukupi kapasitinya, anda mungkin perlu menukar beberapa pemutus litar sebelum sistem berfungsi dengan baik.