半導体加熱技術の未来

ファブの現場では、フォトレジストの焼成時に0.5℃の温度変動があっただけで、300mmウェハが廃棄処分になってしまいます。したがって、温度制御は単なる補助的な作業ではなく、プロセスが成立するための不可欠な要素です。私たちは、ウェハ全体の温度を±0.1℃以内に保つことができるNIR加熱システムを開発...